塑膠真空電鍍的優勢有哪些：

與金屬制件相比，塑膠電鍍制品不僅可以實現很好的金屬質感，而且能減輕制品重量，在改善塑膠外觀及裝飾性的同時，也改善了其在電、熱及耐蝕等方面的性能，提高了其表面機械強度。防水納米液真空鍍膜技術的特點，真空鍍膜技術主要有真空蒸發鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍、真空束流沉積、化學氣相沉積等多種方法。但電鍍用塑膠材料的選擇卻要綜合考慮材料的加工性能、機械性能、材料成本、電鍍成本、電鍍的難易程度以及尺寸精度等因素。而ABS塑膠因其結構上的優勢，不僅具有優良的綜合性能，易于加工成型，而且材料表面易于侵蝕而獲得較高的鍍層結合力，所以目前在電鍍中應用普遍。

總結優勢：1.成型容易、成形好。 2.重量輕。3.耐蝕性佳。4.耐藥性好。5.電絕緣性優良。6.價格低廉。7.可大量生產。

市場對OLED顯示器件要求使用壽命大于10000h，而OLED對于水汽、氧氣非常敏感，其有機發光材料和活潑金屬陰極都很容易和水汽、氧氣發生反應而使器件遭到損壞。除化學氣相沉積法外，其他幾種方法均具有以下的共同特點：(1)各種鍍膜技術都需要一個特定的真空環境，制膜材料在加熱蒸發或濺射過程中所形成蒸氣分子的運動，不致受到大氣中大量氣體分子的碰撞、阻擋和干擾，并消除大氣中雜質的不良影響。派瑞林涂層的水汽滲透率非常低，較可靠的將OLED器件與外界的水氧隔絕，保護了發光材料和活潑金屬陰極，從而提高了OLED的使用壽命。

派瑞林涂層的鍍膜方式為氣相沉積CVD，沉積過程過程主要有三步：

1. 真空130℃條件下固態派瑞林材料升華成氣態。

2. 真空680℃條件下，將氣態雙份子裂解成活性單體。

3. 真空常溫下，氣態單體在基體上生長聚合。

真空鍍膜——也稱為“薄膜技術”；或物理氣相沉積 (PVD) — 在真空技術的各種應用中占有令人印象深刻的份額。在這篇博文中，我們分享了歷史發展的概述、支持薄膜生成的各種基本原理以及涂層設備的總體布局。

薄膜是表面上的材料層，厚度遠低于納米，高可達微米。濺射鍍膜中的激光濺射鍍膜pld，組分均勻性容易保持，而原子尺度的厚度均勻性相對較差(因為是脈沖濺射)，晶向(外沿)生長的控制也比較一般。用薄膜涂覆設備有多種原因。舉幾個例子： 防止腐蝕的保護膜、珠寶或浴室配件上的裝飾層、工具磨損保護、多層以改善眼睛鏡片的光學性能、半導體或太陽能電池生產、觸控面板生產、汽車行業的抬頭顯示器、反光燈的鏡子、保鮮包裝箔、建筑玻璃保溫、指腸鏡。