頂旭桌面微型光刻機，專為微米級圖案制作而設計，旨在保障卓yue的圖形轉移精度。設備采用紫外LED冷光源，結合雙非球面石英透鏡，可生成半角＜2°的平行光，相較傳統(tǒng)接觸式曝光機，其極zhi緊湊的體積將移形換影置于桌面之上，為操作提供了便利與精zhun。

頂旭（蘇州）微控技術有限公司是一家專注于微流控領域的高科技企業(yè)，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案

頂旭光刻機廣泛適用于微流控芯片、MEMS器件、光電子器件以及聲表面波器件等制備領域。其性能尤其適合高校、科研院所以及企業(yè)展開微細加工工藝研究。緊隨現(xiàn)代技術的步伐，頂旭桌面微型光刻機的問世為微納加工注入了新的活力，助力客戶在項目目標的實現(xiàn)過程中邁向更高精度、更具創(chuàng)新性的階段。

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技術參數(shù)

曝光光源：紫外LED光源波長：365nm;

曝光面積：4英寸、6英寸可選；

曝光方式：單面接觸式定時曝光；

曝光分辨率：2um；

曝光強度：20~200mW/cm2可調；

曝光不均勻性：≤5%；

光源平行性：≤2°；

光源壽命：≥20000h；

電源輸入：AC220V±10V，50HZ

功率：250W

重量：25kg

外形尺寸：382（長）*371（寬）*435（高）

工作環(huán)境：溫度0℃-40 ℃，相對濕度＜80 %

頂旭（蘇州）微控技術有限公司是一家專注于微流控領域的高科技企業(yè)，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設備、以及微流控儀器等quan面的微流控解決方案。公司團隊擁有豐富的經驗和技術積累，持續(xù)將專ye知識與創(chuàng)新思維相結合，為客戶提供高pin質的解決方案。

使用方法該設備操作簡單，易于上手，具體操作如下：

一、曝光前準備工作

1、硅片處理：確保待曝光硅片經過勻膠處理，表面干凈平整，沒有明顯的污漬或破損。

2、選擇光刻板：根據項目需要，選擇合適尺寸的光刻板，本設備兼容4英寸、5英寸或6英寸。

3、設備檢查：仔細檢查設備，確保所有部件處于正常工作狀態(tài)，確保操作環(huán)境良好。

頂旭（蘇州）微控技術有限公司是一家專注于微流控領域的高科技企業(yè)，我們致力于為客戶提供微流控芯片定制、表面修飾改性、微流控芯片加工設備、以及微流控儀器等全mian的微流控解決方案。