5分鐘前 廉江圓弧面曝光顯影報價了解更多「利成感光」[利成感光38dbdb8]內容：顯影液去除并且清洗（rinse）：達到顯影時間后，使用DIW立即沖洗晶圓表面。去離子水不僅可以使顯影過程終止，而且會把顯影后缺陷顆粒沖洗掉。在沖洗過程中，晶圓旋轉產生的離心力也對去除表面顆粒有很大的幫助。準備基礎物質：先選擇基礎物質如硅片，并在其表面上涂上一層光刻膠。布圖設計：根據芯片設計，制定合適的曝光和顯影條件，并在計算機上生成掩模圖形來輔助芯片制造。

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進行充分反應，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。從而形成可見的圖片。而在數字攝影中，曝光則是相機中的數字傳感器接收到光線所對應的信息，并記錄下來，再通過數字信號處理，將其轉化為圖片的過程。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉到高轉速

曝光一般在曝光機內進行，目前的曝光機依據光源冷卻方式可分為風冷和水冷，曝光質量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時間、同時曝光影響圖案的線寬，過量曝光會使圖形線條變細，蝕刻產品線條變粗。所以好的辦法是依據顯影的干膜光亮程度，圖像清晰度，圖案線條與底片相符，曝光設備參數和感光性能，確定適合的曝光時間。

3D曲面玻璃的曝光顯影技術的優勢在于：在玻璃表面有極高的解像力，利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過傳統印刷解決的問題，具有精度高，量產性好，良率高等特點，采用曝光顯影技術，遮蔽油墨可控良率可達90%以上。