5分鐘前 廉江圓弧面曝光顯影報(bào)價(jià)了解更多「利成感光」[利成感光38dbdb8]內(nèi)容：顯影液去除并且清洗（rinse）：達(dá)到顯影時(shí)間后，使用DIW立即沖洗晶圓表面。去離子水不僅可以使顯影過(guò)程終止，而且會(huì)把顯影后缺陷顆粒沖洗掉。在沖洗過(guò)程中，晶圓旋轉(zhuǎn)產(chǎn)生的離心力也對(duì)去除表面顆粒有很大的幫助。準(zhǔn)備基礎(chǔ)物質(zhì)：先選擇基礎(chǔ)物質(zhì)如硅片，并在其表面上涂上一層光刻膠。布圖設(shè)計(jì)：根據(jù)芯片設(shè)計(jì)，制定合適的曝光和顯影條件，并在計(jì)算機(jī)上生成掩模圖形來(lái)輔助芯片制造。

顯影液表面停留（puddle）：為了讓顯影液與光刻膠進(jìn)行充分反應(yīng)，顯影液噴淋后需要在硅片表面停留一般為幾十秒到一兩分鐘。從而形成可見(jiàn)的圖片。而在數(shù)字?jǐn)z影中，曝光則是相機(jī)中的數(shù)字傳感器接收到光線(xiàn)所對(duì)應(yīng)的信息，并記錄下來(lái)，再通過(guò)數(shù)字信號(hào)處理，將其轉(zhuǎn)化為圖片的過(guò)程。甩干（spin dry）：為了將表面的去離子水甩干，將硅片轉(zhuǎn)到高轉(zhuǎn)速

曝光一般在曝光機(jī)內(nèi)進(jìn)行，目前的曝光機(jī)依據(jù)光源冷卻方式可分為風(fēng)冷和水冷，曝光質(zhì)量取決于除干膜致抗蝕劑、光源選擇、曝光時(shí)間、同時(shí)曝光影響圖案的線(xiàn)寬，過(guò)量曝光會(huì)使圖形線(xiàn)條變細(xì)，蝕刻產(chǎn)品線(xiàn)條變粗。所以好的辦法是依據(jù)顯影的干膜光亮程度，圖像清晰度，圖案線(xiàn)條與底片相符，曝光設(shè)備參數(shù)和感光性能，確定適合的曝光時(shí)間。

3D曲面玻璃的曝光顯影技術(shù)的優(yōu)勢(shì)在于：在玻璃表面有極高的解像力，利用曝光顯影工藝正好可以解決遮蔽油墨不能通過(guò)傳統(tǒng)印刷解決的問(wèn)題，具有精度高，量產(chǎn)性好，良率高等特點(diǎn)，采用曝光顯影技術(shù)，遮蔽油墨可控良率可達(dá)90%以上。