空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域，而光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝。

真空鍍膜是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，采用物理或化學(xué)方法，吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻、磁控等一系列新技術(shù)。光學(xué)鍍膜是一種物理或化學(xué)方法，在材料表面涂上一層透明的電解質(zhì)膜，或一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

東莞拉奇納米科技有限公司是一家從事納米鍍膜代工與納米鍍膜設(shè)備制造銷售的公司，是將派瑞林（PA-RYLENE）高分子材料裂解為納米分子再進(jìn)行產(chǎn)品表面的真空鍍膜處理。使被鍍物具備以下特性：防水、防潮、耐酸堿、抗鹽霧、高抗壓、絕緣、生物兼容性等。

真空鍍膜機(jī)主要是為了減少反射。為了提高透鏡的透光率和圖像質(zhì)量，在現(xiàn)代透鏡制造技術(shù)中，透鏡應(yīng)采用真空鍍膜。根據(jù)光學(xué)干涉原理，透鏡的真空涂層是在透鏡表面涂覆一層厚度為四分之一波長(zhǎng)（通常為氟化物）的材料，以盡量減少該波長(zhǎng)色光的反射。顯然，一層薄膜只能作用于一種顏色的光，而多層真空涂層可以作用于多種顏色的光。

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真空鍍膜是一種表面非常薄的透明薄膜。目的是減少光的反射，提高透射率，抵抗紫外線，抑制耀斑和鬼影；不同顏色的真空鍍膜也使成像色彩平衡不同。此外，真空鍍膜還可以延遲透鏡的老化和變色時(shí)間。

PVD是英文Physical Vapor Deition(物理氣相沉積)的縮寫。是指在真空條件下，利用低壓大電流電弧放電技術(shù)，利用氣體放電蒸發(fā)靶材，使蒸發(fā)的物質(zhì)和氣體電離，利用電場(chǎng)加速度將蒸發(fā)的物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。