真空系統的基本知識

真空的定義：壓力低于一個大氣壓的任何氣態空間，采用真空度來表示真空的高低。

真空單位換算：1大氣壓≈1.0×105帕=760mmHg=760托

1托=133.3pa=1mmHg

1bar=100kpa

1mbar=100pa

1bar=1000mbar

TCO玻璃=Transparent Conductive Oxide 鍍有透明導電氧化物的玻璃

TCO材料：

SnO2:F(FTO fluorine doped tin oxide氟摻雜yang化錫)

ZnO:Al(AZO aluminum doped zinc oxide鋁摻雜氧化鋅)

In2O3:Sn(ITO indium tin oxide 氧化銦錫)

TCO薄膜的制備工藝

1. 薄膜的性質是由制備工藝決定的，改進制備工藝的努力方向是使制成的薄膜電阻率低、透射率高且表面形貌好，薄膜生長溫度低，與基板附著性好，能大面積均勻制膜且制膜成本低。

2.主要生產工藝：鍍膜過程中有氣壓、基片溫度、靶材功率、鍍膜速度；刻蝕過程中有HCl濃度、刻蝕速度、刻蝕溫度。

真空電鍍工藝主要是通過加熱器把膜材蒸發、蒸發的膜材原子或分子遷移吸附到基體表面的成膜工藝，因此根據膜材的種類不同大體可分為金屬膜的真空電鍍、合金膜的真空電鍍及化合物的真空電鍍這三大類。

從這一原理圖中不難看出，真空電鍍工藝過程是由膜材在蒸發源表面上的蒸發、蒸發后的粒子（主要是原子）在氣相中的遷移、到達基片表面上通過吸附作用在基片表面上凝結生成薄膜等三個過程所組成。這種工藝過程創造一個良好成膜條件是十分必要的。

在表面處理工藝上，真空電鍍成為環保新趨勢。更安全、更節能、降低噪聲、減少污染排放的特點，與一般電鍍不同，真空電鍍更加環保，可以生產出普通電鍍無法達到的光澤度很好的黑色效果。

真空電鍍步驟：在工件上先噴一層底漆，再做電鍍。由于工件是塑料件，在注塑時會殘留空氣泡，有機氣體，而在放置時會吸入空氣中的水分。另外，由于塑料表面不夠平整，直接電鍍的工件表面不光滑，光澤低，金屬感差，并且會出現氣泡，水泡等不良狀況。噴上一層底漆以后，會形成一個光滑平整的表面，并且避免了塑料本身存在的氣泡水泡的產生，使得電鍍的效果得以展現。

真空電鍍工藝流程復雜，非常依賴人工操作。工件（靶材）需要噴涂、裝卸、再噴涂，并且也取決于工件的復雜度和數量，所以人力成本很高。真空環境下輻射小、環境污染小，真空電鍍現為各行業中廣泛應用。

PVD前的電鍍打底出現麻點的原因分析：

真空電鍍前水鍍的作用：

電鍍打底可以實現很好的金屬質感，也改善了其在電、熱及耐蝕等方面的性能，提高了其表面機械強度。電鍍要綜合考慮材料的加工性能、機械性能、材料成本、電鍍成本、電鍍的難易程度以及尺寸精度等因素。

鍍銅容易產生麻點。陽極板含磷低，溶解不良，容易產生氧化亞銅顆粒，這是麻點的一個來源。陽極板含磷太高，液面形成一圈黑油，也會形成麻點。適當的磷含量(質量分數)應該是0.04%～0.06%。光亮劑失調(比如，表面活性劑或S類光亮劑少)、光亮劑分解產物多都會形成麻點，要小心控制，并及時電解處理和定期用活性炭處理：氯根高也是麻點的一個原因，可以用碳酸銀處理。

麻點的另一個原因是溶液中的固體顆粒。因而對過濾越來越重視，更多的前處理溶液應要求過濾，過濾機的每小時循環次數越來越多。同時清洗水質要求越來越高，更多地用純水，以防硬水帶來的固體顆粒。車間也應重視防塵。但是，沒有一種辦法有立桿見影的效果，因而辦法在不斷變化中；麻點一直還是電鍍必須面對的一個難題。