真空鍍膜加工能被譽(yù)為具發(fā)展前途的主要技能之一，并已在高技能產(chǎn)業(yè)化的發(fā)展中展現(xiàn)出誘人的市場(chǎng)前景。這種新式的真空鍍膜加工技能已在國(guó)民經(jīng)濟(jì)各個(gè)范疇得到使用，如航空、航天、電子、信息、機(jī)械、石油、化工、環(huán)保、等范疇。真空鍍膜加工：采用在真空條件下，通過(guò)蒸餾或?yàn)R射等方式在塑件表面沉積各種金屬和非金屬薄膜。

掛鍍適用于一般尺寸的制品，如汽車的保險(xiǎn)杠，自行車的車把等。滾鍍適用于小件，緊固件、墊圈、銷子等。連續(xù)鍍適用于成批生產(chǎn)的線材和帶材。

真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜辦法而發(fā)展起來(lái)的一種新型鍍膜技能，一般稱為干式鍍膜技能。真空鍍膜技能一般分為兩大類，即物理氣相堆積（PVD）技能和化學(xué)氣相堆積（CVD）技能。

真空鍍膜加工的基本技能要求

1、設(shè)備中的真空管道、靜態(tài)密封零部件（法蘭、密封圈等）的結(jié)構(gòu)形式，應(yīng)契合GB/T6070的規(guī)則。

2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應(yīng)設(shè)備真空丈量規(guī)管，分別丈量各部位的真空度。當(dāng)發(fā)現(xiàn)電場(chǎng)對(duì)丈量造成攪擾時(shí)，應(yīng)在丈量口處設(shè)備電場(chǎng)屏蔽設(shè)備。

高頻感應(yīng)蒸發(fā)源蒸鍍法：

高頻感應(yīng)蒸發(fā)源是將裝有蒸發(fā)材料的石墨或陶瓷坩鍋放在水冷的高頻螺旋線圈中央，使蒸發(fā)材料在高頻帶內(nèi)磁場(chǎng)的感應(yīng)下產(chǎn)生強(qiáng)大的渦流損失和磁滯損失（對(duì)鐵磁體)，使蒸發(fā)材料升溫，直至氣化蒸發(fā)。

優(yōu)點(diǎn)：

1、蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右。

2、蒸發(fā)源的溫度均勻穩(wěn)定不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象。

3、蒸發(fā)材料是金屬時(shí)，蒸發(fā)材料可產(chǎn)生熱量。

4、蒸發(fā)源一次裝料，無(wú)需送料機(jī)構(gòu)，溫度容易控制，操作簡(jiǎn)單。