真空鍍鈦加工報價服務至上「金常來」[金常來681ff2e]內容：金屬表面處理PVD鍍鈦種類：氮化鈦(TiN),鍍鉻(CrN), ROSE,氮鋁鈦(TiAlN),高鋁鈦(AlTiN), PLUS,氮碳化鈦(TiCN),氮碳化鉻(CrCN)等各種超硬膜層，其涂層厚度可達到0.5～5um，故而您不用擔心會給尺寸帶來麻煩，并以工藝使產品具有良好的潤滑、散熱（干式），使工件壽命可增加10～50倍，可提高600％工作效力，從而降低生產成本。磁控濺射是70年代在陰極濺射的基礎上發展起來的一種新型濺射鍍膜法,由于它有效地克服了陰極濺射速率低和電子使基片溫度升高的致命弱點,因此獲得了迅速的發展和廣泛的應用。

較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。優點可以濺射所有材料，包括導體和絕緣體濺射可大規模生產磁控濺射磁控濺射通過在靶陰極表面引入正交電磁場，把二次電子束縛在靶表面，成螺旋狀運行來增強電離效率，增加離子密度和能量以增加濺射率。多弧鍍設備結構簡單，容易操作。它的離子蒸發源靠電焊機電源供電即可工作，其引弧的過程也與電焊類似，具體地說，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發離子源短暫接觸，斷開，使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動的弧斑，在蒸發源表面上連續形成熔池，使金屬蒸發后，沉積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結合力強的優點。

離子鍍時，蒸發料粒子是以帶電離子的形式在電場中沿著電力線方向運動，因而凡是有電場存在的部位，均能獲得良好鍍層，這比普通真空鍍膜只能在直射方向上獲得鍍層優越得多。鍍層附著性能好普通真空鍍膜時，在工件表面與鍍層之間幾乎沒有連接的過渡層，好似截然分開。因此，這種方法非常適合于鍍復零件上的內孔、凹槽和窄縫。等其他方法難鍍的部位。用普通真空鍍膜只能鍍直射表面，蒸發料粒子尤如攀登云梯一樣，只能順梯而上；而離子鍍則能均勻地繞鍍到零件的背面和內孔中，帶電離子則好比坐上了直升飛機，能夠沿著規定的航線飛抵其活動半徑范圍內的任何地方。